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雙溫區(qū)管式爐采用精密鋼板制作，表面靜電噴塑，外形美觀。工作室由剛玉管制成，加熱元件根據(jù)溫度需要匹配（硅碳棒或硅鉬棒），保溫材料為輕質(zhì)保溫保溫加硅酸鋁耐火纖維棉，與電爐配套的溫控部分采用PID可調(diào)智能儀表控制可對(duì)多個(gè)程序段進(jìn)行編程控制產(chǎn)品的燒成過程，并具有過流、限流、過熱等保護(hù)功能。雙溫區(qū)管式爐主要用于高校實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的開發(fā)、晶體硅襯底涂層、金屬材料擴(kuò)散焊和真空或氣氛中熱處理等設(shè)備必須按照操作規(guī)范使用，還應(yīng)注意以下幾點(diǎn)：1、檢查...

立式真空水淬爐是源于鈦合金材料在航天航空領(lǐng)域大量使用而研發(fā)制造的，主要針對(duì)α+β型鈦合金材料真空加熱之后快速淬火(固溶處理)的一種新型熱處理設(shè)備。大家都知道，鈦的密度為4.51g/cm3，鈦合金很輕，如Ti-6Al-4V的密度僅為4.42g/cm3，鈦合金材料經(jīng)固溶處理再時(shí)效強(qiáng)化后的比強(qiáng)度遠(yuǎn)高于高強(qiáng)度鋁合金、鎂合金、高溫合金和高強(qiáng)度結(jié)構(gòu)鋼，甚至與超高強(qiáng)度鋼相當(dāng)，因此被廣泛應(yīng)用于航空航天、船舶、生物醫(yī)用、化工、汽車等領(lǐng)域。如美國(guó)F-22戰(zhàn)機(jī)上鈦合金的用量已高達(dá)41%，而鋁合金和...

無(wú)論是大氣(常壓)等離子清洗機(jī)，還是真空(低壓)等離子清洗機(jī)，在對(duì)材料進(jìn)行表面改性的時(shí)候都會(huì)通入工藝氣體，如無(wú)水無(wú)油的干凈壓縮空氣，有一定純度要求的氮?dú)?、氧氣、氬氣等等離子清洗機(jī)中通入的普通工藝氣體要想轉(zhuǎn)化為等離子體，每個(gè)粒子大約需要：：（1~30eV（1eV=1.6022×10-19焦耳）的能量，其中的粒子具有較高的活性和能量密度。但要注意的是，電離的氣體不一定是就是等離子體，雖然等離子體和普通氣體存在一些共同特點(diǎn)，如它們均滿足氣體狀態(tài)方程，但它們卻有截然不同的性質(zhì)，PCE...

近年來(lái)，市場(chǎng)對(duì)質(zhì)量的要求越來(lái)越嚴(yán)格，國(guó)際上對(duì)環(huán)保的要求也越來(lái)越嚴(yán)格，我國(guó)許多高密度清潔行業(yè)面臨嚴(yán)峻挑戰(zhàn)。現(xiàn)在市面上出現(xiàn)的超聲波清洗機(jī)都無(wú)法達(dá)到改裝的效果，它們只能清潔表面上的一些可見物體。由于制造過程中的各種缺陷，衍生出等離子清洗機(jī)等高科技產(chǎn)品。多功能試樣表面處理機(jī)可以實(shí)現(xiàn)表面改性、清洗和產(chǎn)品性能提升，大大降低了產(chǎn)品在制造過程中造成的不良率，從而提高了產(chǎn)品質(zhì)量，降低了成本等等。目前，等離子清洗機(jī)給很多工業(yè)生產(chǎn)企業(yè)帶來(lái)了很大的便利。多功能試樣表面處理機(jī)將硅片置于真空反應(yīng)系統(tǒng)中，...

鼓風(fēng)干燥箱又名烘箱，因靠風(fēng)循環(huán)來(lái)保證箱體的試驗(yàn)溫度而得名，是實(shí)驗(yàn)室常用儀器設(shè)備之一，廣泛應(yīng)用于工礦企業(yè)、院校、科研、醫(yī)療單位及實(shí)驗(yàn)室作物品干燥、烘焙、熔蠟、滅菌等使用。鼓風(fēng)烘干箱DHG-9000J主要特點(diǎn)：設(shè)備的控制系統(tǒng)，具有安全可靠、操作簡(jiǎn)單、控溫精度高(專家PID控制)、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高等特點(diǎn)。今天我為大家簡(jiǎn)單介紹鼓風(fēng)干燥箱的使用注意事項(xiàng)，以及常見故障問題和解決方法。一、鼓風(fēng)干燥箱的使用注意事項(xiàng)（一）使用前確保鼓風(fēng)干燥箱的正常工作條件1、環(huán)境溫度：...

小型蒸鍍儀是一種小型臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀器，儀器雖小，功能齊全，但具有電壓電流反饋、樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)、樣品高度調(diào)節(jié)、電動(dòng)擋板等功能。通過定期調(diào)節(jié)預(yù)熱功率和蒸發(fā)功率，可以使大部分金屬均勻蒸發(fā)沉積。真空室為透明石英玻璃，以減少樣品污染?？尚D(zhuǎn)樣品臺(tái)以獲得更均勻的薄膜，并可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物。1、小型蒸鍍儀可以使用多種類型的碳絲進(jìn)行真空鍍膜。蒸發(fā)是*的，全自動(dòng)操作系統(tǒng)使工作時(shí)間相對(duì)減少，只需5分鐘。2、系統(tǒng)采用低電壓大電流，電極間放置碳絲。3、電極裝置裝有保護(hù)擋板，以保護(hù)樣品...

濺射沉膜技術(shù)是以一定能量的粒子(離子或中性原子、分子)轟擊固體表面，使固體近表面的原子或分子獲得足夠大的能量而最終逸出固體表面的工藝。濺射只能在一定的真空狀態(tài)下進(jìn)行。濺射工藝主要用于濺射刻蝕和薄膜沉積兩個(gè)方面。濺射刻蝕時(shí)，被刻蝕的材料置于靶極位置，受氬離子的轟擊進(jìn)行刻蝕?？涛g速率與靶極材料的濺射產(chǎn)額、離子流密度和濺射室的真空度等因素有關(guān)。濺射刻蝕時(shí)，應(yīng)盡可能從濺射室中除去濺出的靶極原子。常用的方法是引入反應(yīng)氣體，使之與濺出的靶極原子反應(yīng)生成揮發(fā)性氣體，通過真空系統(tǒng)從濺射室中排...