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1200℃開啟式管式爐具有基礎溫度低、沉積速度快、成膜質量好、針孔少、不易開裂等優(yōu)點；在此過程中，由于等離子體中的高速電子撞擊中性反應氣體分子，中性反應氣體分子會變成碎片或處于活化狀態(tài)，容易發(fā)生反應；在射頻的幫助下，含有薄膜原子的氣體在局部形成等離子體，等離子體具有很強的化學活性，易于反應在基板上沉積所需的薄膜；高真空系統(tǒng)由兩級旋片真空泵和分子泵組成，真空度可達0.001pa；數(shù)字質量流量控制系統(tǒng)由多通道質量流量計和流量顯示儀表組成，實現(xiàn)氣體流量的精確測量和控制；每條燃氣管道...

管式爐主要運用于冶金，玻璃，熱處理，鋰電正負極材料，新能源，磨具等行業(yè)，測定材料在一定氣溫條件下的專業(yè)設備。爐型結構簡單，操作容易，便于控制，能連續(xù)生產(chǎn)。管式爐使用的注意事項注意一電爐操作工應具備國家相應電氣設備操作資格，并熟讀隨機儀表說明書等技術文件!溫度系統(tǒng)操作:用戶開關板給電爐送電，此時程序表得電，按溫度儀表(如右圖)說明書設定儀表(如P、I、D參數(shù))，按工藝要求編制加熱程序，打開加熱旋鈕,使加熱功率到達6KW。加熱功率可按下式計算:加熱功率=儀表電壓×儀表電流正常加熱...

就像把石頭扔進平靜的湖水會濺出水一樣，用高速離子轟擊固體表面會使近表面的原子（或分子）從固體表面逃逸。這種現(xiàn)象稱為濺射現(xiàn)象。濺射意味著具有足夠高能量的粒子轟擊固體表面以發(fā)射原子。早期的人們認為，這種現(xiàn)象源于目標的局部加熱。然而，人們發(fā)現(xiàn)濺射和蒸發(fā)有本質區(qū)別，人們逐漸認識到濺射是轟擊粒子與靶粒子之間動量傳遞的結果。小型磁控射頻濺射鍍膜儀磁控濺射利用磁場束縛電子的運動，提高電子的電離率。與傳統(tǒng)濺射相比，具有“低溫”和“高速”兩大特點。磁控射頻濺射鍍膜儀具有小型化、標準化的特點。磁...

高真空蒸發(fā)鍍膜儀采用前開門真空室設計，室高增加到500mm。樣品臺與蒸發(fā)源之間的距離有較大的調節(jié)范圍，可適應多種蒸發(fā)要求，避免樣品在蒸發(fā)源中高處損壞。高真空蒸發(fā)鍍膜儀配有四套鎢舟蒸發(fā)源和水冷銅電極。每個蒸發(fā)源支持100A的大電流和1800°C的加熱溫度，可實現(xiàn)多層涂裝或多種材料混合涂裝。型腔采用上樣品臺，樣品臺可旋轉、加熱、升降，所有操作均可通過觸摸屏集成控制。設備真空系統(tǒng)為兩級旋片泵和渦輪分子泵組成的兩級真空系統(tǒng)，可提供潔凈無油的高真空環(huán)境。該設備配有氣動閥門系統(tǒng)。通過操作...

多功能試樣表面處理機是一種用于掃描電子顯微鏡和電子探針樣品制備的設備?？稍诟呒儦鍤獗Ｗo下進行多種離子處理。也可以對碳和金屬進行真空蒸鍍。該設備處理的樣品既可用于樣品的形貌觀察，也可用于成分分析。尤其是成分的定量分析更適合。該設備采用分子泵和機械泵組成的高真空單元系統(tǒng)。試樣以三種方式移動：平面旋轉、傾斜旋轉和傾斜進動。多功能試樣表面處理機功能可以賦予材料新的表面特性。這些特性隨時間逐漸衰減的特性稱為老化。一般認為，等離子體表面處理對材料的影響涉及到表面活化、交聯(lián)、表面蝕刻等多個...

熱噴涂鍍膜設備濺射鍍膜是將基體和靶材置于真空腔內，用電子或高能激光轟擊靶材，使表面成分以原子團或離子的形式濺射出來，沉積在表面基板，通過成膜工藝形成薄膜。粉末壓制燒結法和粉末熱等靜壓法常用于小尺寸平面靶材的生產(chǎn)。前者制作的靶材純度較低，而后者制作工藝復雜，特別是在合金靶材的生產(chǎn)中，成分不*均勻。靶材的大尺寸和高利用率是涂層領域的新趨勢，熱噴涂鍍膜設備等離子噴涂的諸多特點顯示出其在生產(chǎn)大尺寸、高利用率靶材方面的*優(yōu)勢。1、等離子噴涂火焰溫度高，熱量集中，幾乎可以熔化所有高熔點粉...

高真空蒸發(fā)鍍膜儀是一種高真空蒸鍍機，特別適用于對氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍。本機配備四只蒸鍋，每只蒸鍋均配有擋板，如果改變部分配置，還可以實現(xiàn)有機材料的蒸鍍，可以滿足發(fā)光器件和有機太陽能電池的研究需求，是一種涂裝效果理想的實驗設備。原理：基于電阻蒸發(fā)原理，利用大電流對鉬舟或鎢藍或固定支架上的鍍膜材料進行加熱，使其在高真空下蒸發(fā)并沉積在鍍膜樣品上，以獲得最佳鍍膜效果。采用大抽速、高壓縮比、自然風冷卻復合分子泵，保證電鍍時蒸發(fā)源和...