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5靶頭等離子射頻磁控濺射儀

簡要描述：VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對于高通量MGI（材料基因組計劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質材料，通過5種元素，按16種不同配比組合。

  • 產(chǎn)品型號：VTC-5RFI薄膜研究
  • 廠商性質：生產(chǎn)廠家
  • 更新時間：2025-02-11
  • 訪  問  量：3798

詳細介紹

 VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對于高通量MGI（材料基因組計劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質材料，通過5種元素，按16種不同配比組合。

 

技術參數(shù)

概念

  • 5個濺射頭安裝5種不同材料
  • 通過不同的濺射時間，5種材料可以濺射出不同組分的產(chǎn)物，
  • 選擇5個等離子射頻電源，可在同一時間濺射5種材料
  • 真空腔體中安裝有旋轉樣品臺，可以制作16個樣品

電源

單相220 VAC, 50 / 60 Hz

射頻電源

  • 一個13.5MHz,300W自動匹配的射頻電源安裝在儀器上，并與靶頭相連接
  • 一個旋轉開關可一次激活一個濺射頭。濺射頭可以在真空或等離子體環(huán)境中自動切換
  • 可選購多個射頻電源，同一時間濺射多個靶材。
  • 所有的濺射參數(shù)，都可由電腦設置

直流電源（可選）

  • 可選購直流電源，來濺射金屬靶材
  • 可配置5個直流或射頻電源，來同時濺射5中靶材

磁控濺射頭

 

  • 5個1英寸的磁控濺射頭，帶有水冷夾層
  • 可在本公司額外購買射頻線
  • 電動擋板安裝在濺射腔體內
  • 設備中配有一循環(huán)水冷機，水流量為10L/min
  •  (1)  (2) (3) (4)

濺射靶材


  • 所要求靶材尺寸：直徑為25.4mm,zui大厚度3mm
  • 濺射距離: 50 – 80 mm（可調）
  • 濺射角度: 0 – 25°（可調）
  • 配有銅靶和 Al2O3 靶，用于樣品測試用
  • 可在本公司購買各種靶材
  • 實驗時，需要將靶材和銅片粘合，可通過導電銀漿粘合（可在本公司購買導電銀漿）

真空腔體

 

  • 真空腔體采用304不銹鋼制作
  • 腔體內部尺寸:  470mm L×445mm D×522mm H  (~ 105 L)
  • 鉸鏈式腔門，直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口
  • 真空度: 4E-5 torr （采用分子泵）

樣品臺

  • 直徑為150mm的樣品臺，上面覆蓋一旋轉臺，帶有10mm的孔洞，每次露出一個樣品接收濺射成膜。
  • 樣品臺尺寸：Φ150mm,可通過程序控制來旋轉，可制作16種不同組分的薄膜
  • 樣品臺可以加熱，zui高溫度可達600℃

真空泵

  • 設備中配有一小型渦旋分子泵
  • 真空泵接口為KF40

石英振蕩測厚儀（可選）

可選購精密石英振蕩測厚儀，安裝在真空腔體內，實時測量薄膜的厚度，精確度為0.1 Å（需水冷）

凈重

60kg

質量認證

CE認證

質保

一年質保期，終生維護

應用注意事項

  • 此款設備設置主要是在單晶基片上制作氧化物薄膜，所以不需要高真空的環(huán)境
  • 所用氣瓶上必須安裝減壓閥（可在本公司購買），所用Ar氣純度為5N
  • 為了得到較好質量的薄膜，可以對基片進行清洗
  • 用超聲波清洗機，用丙酮或乙醇作為清洗介質，清除基片表面的油脂，然后在N2氣或真空環(huán)境下對基片干燥
  • 等離子清洗機，可使基片表面粗糙化，改變基片表面化學活性，清除表面污染物
  • 可在基片表面鍍上緩沖層，如Cr, Ti, Mo, Ta,，可改善金屬或合金膜的粘附性
  • 濺射一些非導電靶材，其靶材背后必須附上銅墊片
  • 本公司實驗室成功地在Al2O3基片上成功生長出ZnO外延膜
  • 因為濺射頭連接著高電壓，所以用戶在放入樣品或更換靶材時，必須切斷電源
  • 不可用自來水作為冷卻水，以防水垢堵塞水管。應該用等離子水，或冷卻介質

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